|
2月21日消息，据国外媒体报道，三星宣布，其新的EUV(远紫外线)半导体生产线已开始大规模生产，该生产线将为客户生产7纳米或更小的芯片。
该新V1生产线位于该公司在韩国华城的工厂，是第一条专门用于EUV光刻技术的生产线。 三星表示，公司将使用7纳米及以下工艺节点生产芯片。该公司还将采用7纳米和6纳米工艺生产移动芯片，并计划最终生产小至3纳米的芯片。 早在2018年2月，该公司就开始打造V1生产线，迄今已向其投资60亿美元。 三星称，它将加大V1生产线的产量，再加上S3生产线，其7纳米或更小芯片的产量预计将比去年增加两倍。 EUV工艺使用波长较短的紫外线在晶片上绘制设计范式。根据三星的说法，与之前使用氟化氩激光的光刻技术相比，这种技术可以提供更精细、更好的设计。 该韩国科技巨头在2017年和2019年分别开发了现已商用的7纳米和5纳米制程工艺。2019年5月，它共享了其3纳米制程的工艺设计工具包。 近年来，三星与芯片代工领头羊台积电(TSMC)展开激烈竞争，以争夺高通、英伟达、苹果等大客户。三星目前共有6条专用于芯片代工生产的生产线。 三星声称，为了成为行业领先者，在2030年之前它将向代工芯片生产和处理器等逻辑芯片业务投资1200亿美元。(乐邦) |
免责声明：本网站内容由网友自行在页面发布，上传者应自行负责所上传内容涉及的法律责任，本网站对内容真实性、版权等概不负责，亦不承担任何法律责任。其原创性以及文中陈述文字和内容未经本站证实，对本文以及其中全部或者部分内容、文字的真实性、完整性、及时性本站不作任何保证或承诺，并请自行核实相关内容。本站不承担此类作品侵权行为的直接责任及连带责任。如若本网有任何内容侵犯您的权益，请及时联系我们，本站将会在24小时内处理完毕。
京公网安备11010802031211号